化学システム工学科 和田 蒼汰さん（B4）が化学工学会 第89回年会 学生奨励賞を受賞されました

2024年3月19日、化学システム工学科 杉山・Badr研究室 和田 蒼汰さん（B4）が化学工学会 第89回年会 学生奨励賞を受賞されました。

化学工学会 第89回年会 学生奨励賞

ポスター発表において、学生による発表のうち、研究面および発表者について産学官の審査員が総合的に評価したうえで、その得点等を考慮し、発表総数の上位5%以内の学生に授与される賞です。

受賞された研究・活動について

無菌医薬品の製造において、アイソレータ庫内の無菌性を保証するための除染プロセスは重要な切り替えプロセスですが、従来の除染手法では除染時間の長さが課題とされてきました。そうした中、近年除染時間を大幅に短縮できる技術として超音波除染が開発され、実用化されています。しかし、超音波除染では内部の機構が完全には解明されておらず、その設計は試行錯誤的なものとなっています。本研究では、数値流体力学（CFD）を用いてこの超音波除染プロセスをモデル化し、シミュレーションによってプロセスの設計を行いました。なお、本研究は株式会社エアレックスと東京大学の共同研究です。

今後の抱負・感想

本研究を進めるにあたって、共同研究者の皆様、杉山 弘和先生をはじめとする研究室メンバーに多大なるご支援をいただきました。この場を借りて感謝申し上げます。今回、初めて参加した学会において、このような賞をいただけてとても光栄です。この賞を励みとして、修士課程でも研究に取り組んでいきたいと思います。

化学工学会第89年会 学生賞受賞者一覧：https://www4.scej.org/meeting/89a/pages/jp_prize-89a.html